Nanoscope參加2021全國(guó)粉體測(cè)試技術(shù)應(yīng)用研討會(huì)

Nanoscope Systems（納茲克股份有限公司） 參加了2021年9月24日至26日在天津?yàn)I海新區(qū)舉行的“第十三屆全國(guó)顆粒測(cè)試學(xué)術(shù)會(huì)議"，本次開(kāi)會(huì)議邀請(qǐng)了國(guó)內(nèi)顆粒測(cè)試的專(zhuān)家總結(jié)交流顆粒測(cè)試方面的最新成果，探討顆粒測(cè)試發(fā)展方向與未來(lái)趨勢(shì)。

本次展品的范圍包括各種類(lèi)型的激光粒度分析儀、顆粒圖像處理儀、顆粒計(jì)數(shù)器、粉體流動(dòng)性測(cè)試儀等等

此次納茲克參加的展品有NS3500系列激光共聚焦顯微鏡，K1-Fluo系列激光熒光共聚焦顯微鏡。

納茲克股份有限公司的海外部長(zhǎng)Dicke 在會(huì)議上針對(duì)激光共聚焦顯微鏡在微納表征中的引用做了詳細(xì)的報(bào)告。與一般采用激光散射與衍射技術(shù)測(cè)量顆粒物粒徑的方法不同，激光共聚焦顯微鏡更強(qiáng)調(diào)對(duì)顆粒實(shí)際三維形貌的分析      

 他強(qiáng)調(diào)由于中美貿(mào)易戰(zhàn)的影響芯片作為一個(gè)新興的戰(zhàn)略產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域而備受關(guān)注。芯片制造是一個(gè)非常精密的過(guò)程，是民用工業(yè)領(lǐng)域的明珠，雖然在芯片制造方面有著中芯國(guó)際等一系列芯片制造公司，但是與5納米制程芯片相比，特別是在半導(dǎo)體制造設(shè)備方面仍然有著較大的差距。晶圓是芯片的基底，晶圓質(zhì)量的高低對(duì)芯片的最終性能有著直接的影響。所以對(duì)于晶圓的檢測(cè)是一個(gè)非常重要的環(huán)節(jié)，晶圓表面微觀缺陷的檢測(cè)涵蓋了前端制程的每一個(gè)環(huán)節(jié)。晶圓表面的缺陷包含：晶圓表面的納米級(jí)顆粒物，加工過(guò)程中的機(jī)械損傷以及本身材料的化學(xué)缺陷等。對(duì)于半導(dǎo)體晶圓表面納米級(jí)顆粒物的檢測(cè)是一個(gè)非常有挑戰(zhàn)的事，利用激光共聚焦顯微鏡可以對(duì)晶圓的表面進(jìn)行快速無(wú)損檢測(cè)。探測(cè)器只收集焦點(diǎn)處的反射信號(hào)，反射信號(hào)中包含了大量的信息包括：橫向、縱向、軸向信息、粗糙度波動(dòng)以及光強(qiáng)等等。通過(guò)對(duì)反射信號(hào)的處理以及圖像的重新構(gòu)建就可以獲得樣品表面的真實(shí)三維圖像信息。目前NS3500已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了對(duì)晶圓表面顆粒物以及劃痕快速檢測(cè)技術(shù)的突破，可以對(duì)晶圓表面進(jìn)行大范圍拼接獲得晶圓整體的表面三維信息，并且對(duì)選出其中有缺陷的部分進(jìn)行獨(dú)立分析。

另外，為了更好的服務(wù)大中華區(qū)的客戶(hù)，納茲克股份有限公司與國(guó)內(nèi)外多家高校和科研機(jī)構(gòu)設(shè)立的聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，并且還在上海設(shè)立了獨(dú)立的辦事處有專(zhuān)門(mén)的人員負(fù)責(zé)統(tǒng)籌大中華區(qū)的所有商務(wù)活動(dòng)。歡迎后期有興趣的老師聯(lián)系并進(jìn)行深入的學(xué)術(shù)交流。"

納茲克科技股份有限公司相信通過(guò)這些聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室能夠?yàn)橹袊?guó)的顆粒學(xué)術(shù)研究提供更多的幫助。